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磁控濺射技術鍍膜論文發表

發布時間:2019-07-02 15:04所屬分類:期刊百科瀏覽:1加入收藏

濺射鍍膜是在真空室中,利用氣體在低壓環境中的放電現象,使其產生的正離子在電場的作用下加速轟擊靶材表面,使濺射出來的原子或者分子沉積在基片

  濺射鍍膜是在真空室中,利用氣體在低壓環境中的放電現象,使其產生的正離子在電場的作用下加速轟擊靶材表面,使濺射出來的原子或者分子沉積在基片上。相比較于傳統的鍍膜方式,磁控濺射鍍膜可以用作靶材的材料很多,基本上所有的金屬材料、合金材料、陶瓷材料上使用。那么關于磁控濺射技術鍍膜論文該如何發表呢?有哪些刊物可以發表磁控濺射技術鍍膜論文呢?
 

熱噴涂技術

  《熱噴涂技術》辦刊宗旨為:宣傳國家關于熱噴涂及相關領域的政策,交流熱噴涂技術的科研成果、技術信息,為熱噴涂技術的推廣、科研、生產實踐及提高熱噴涂行業從業人員素質服務,促進我國熱噴涂技術行業發展。讀者對象:國內外從事熱噴涂材料、設備、技術應用及相關領域的企事業單位,公司,研究院所,大學,圖書館等。

現代制造工程

  《現代制造工程》主要介紹北京地區、兄弟省市以及國外機械制造工藝方面的科研成果、先進經驗,普及機械科學的基礎理論知識,以機械加工工藝為報導重點。本刊重點報道傳統制造技術的創新(技巧創新和決竅)和現代制造技術的新進展、研究與生產應用成果,注重實用性,推介先進性,力促創新性,以我國機械制造技術的理論創新發展和制造企業制造現代化為己任。

  以上兩本制造類期刊均可以投稿磁控濺射技術鍍膜論文,其中收錄的關于磁控濺射技術鍍膜方面的論文有“脈沖偏壓對直流磁控濺射制備CuNiIn薄膜過程中鈦合金基體的影響”、“磁控濺射鍍膜技術在鋁合金制品裝飾鍍中的應用”等,更多磁控濺射技術鍍膜類論文投稿可以咨詢期刊vip網站在線客服。


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